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浅谈射频导纳物位计的测量原理
      射频导纳量测技术是具有独特优势的物位量测技术。虽然跟一般的电容式量测技术的概念很相似，但是射频导纳技术在电子单元中加入了Driving-Shield电路和斩波电路，因此能够实现阻抗和容抗的单独量测。通过物理定律计算可得，任何挂料的阻抗和容抗的大小是相等的，所以由挂料产生的影响能够被量测出来并且通过振荡电路的移相，从总的输出中消除。 
传统的电容式 物位计 ，随着物位上涨、材料覆盖探测头，电路中探测头和介质之间的电容值(导电材料场合)或者探测头和管壁之间的电容值(绝缘材料场合)随之增加。由于物位的变化导致了电容桥的失衡，所以电容值的变化取决于被测材料的介电常数。然后通过对信号的检波、放大，*后输出相应的信号。然而，电容式物位仪表有一些缺点，特别是当探测头有挂料的时候会严重影响量测结果。
射频导纳物位计 产品的探测头安装在储料罐中，通过探测头获得物位变化引起的射频信号的变化。探测头的Driving-Shield端能够阻止射频电流通过挂料形成回路，保证了仪表量测的准确性。
射频导纳技术量测结果精度高，并且不受探测头挂料的影响，是目前使用场合*广泛的一种量测技术。从低温-100℃到高温800℃、从真空到6.3MPa强压场合、从超短量程到120米超大量程，都能够正常应用，并且能够应用于不同类型的材料。


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